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KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵中村庫存SDE20N12TX無油干式設計：采用無潤滑油機械結(jié)構(gòu)，可避免介質(zhì)污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。

KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵中村庫存SDE30N20無油干式設計：采用無潤滑油機械結(jié)構(gòu)，可避免介質(zhì)污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。

KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵中村到貨SDL12E50無油干式設計：采用無潤滑油機械結(jié)構(gòu)，可避免介質(zhì)污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。

KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵中村到貨SDL20E50無油干式設計：采用無潤滑油機械結(jié)構(gòu)，可避免介質(zhì)污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。

KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵中村到貨SDL36E60無油干式設計：采用無潤滑油機械結(jié)構(gòu)，可避免介質(zhì)污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。

KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵中村到貨SDL3600無油干式設計：采用無潤滑油機械結(jié)構(gòu)，可避免介質(zhì)污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。

KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵中村到貨MU100X無油干式設計：采用無潤滑油機械結(jié)構(gòu)，可避免介質(zhì)污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。

KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵中村到貨MU180X無油干式設計：采用無潤滑油機械結(jié)構(gòu)，可避免介質(zhì)污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。

KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵中村到貨MU300X無油干式設計：采用無潤滑油機械結(jié)構(gòu)，可避免介質(zhì)污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。

KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵中村到貨MU600X無油干式設計：采用無潤滑油機械結(jié)構(gòu)，可避免介質(zhì)污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。

中村供應：KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵MU1218X無油干式設計：采用無潤滑油機械結(jié)構(gòu)，可避免介質(zhì)污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。

中村供應：KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵MU20N18X無油干式設計：采用無潤滑油機械結(jié)構(gòu)，可避免介質(zhì)污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。

中村供應：KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵MU100P/H無油干式設計：采用無潤滑油機械結(jié)構(gòu)，可避免介質(zhì)污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。

現(xiàn)貨庫存：KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵MU180P/H無油干式設計：采用無潤滑油機械結(jié)構(gòu)，可避免介質(zhì)污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。

現(xiàn)貨庫存：KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵MU300P/H無油干式設計：采用無潤滑油機械結(jié)構(gòu)，可避免介質(zhì)污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。

現(xiàn)貨庫存：KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵MU600P/H無油干式設計：采用無潤滑油機械結(jié)構(gòu)，可避免介質(zhì)污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。

現(xiàn)貨庫存：KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵MU1218P/H無油干式設計：采用無潤滑油機械結(jié)構(gòu)，可避免介質(zhì)污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。

現(xiàn)貨庫存：KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵MU20N18P無油干式設計：采用無潤滑油機械結(jié)構(gòu)，可避免介質(zhì)污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。

現(xiàn)貨庫存：KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵MU30N18P無油干式設計：采用無潤滑油機械結(jié)構(gòu)，可避免介質(zhì)污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。

中村供貨：KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵NeoDry7E無油干式設計：采用無潤滑油機械結(jié)構(gòu)，可避免介質(zhì)污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。