目錄:北京卓立漢光儀器有限公司>>光譜儀器>>光源>> 光源：Gloria-SC-P-UVE 超連續(xù)譜激光器
| 光源種類 | 其他光源 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 生物產(chǎn)業(yè),農(nóng)林牧漁,電子/電池,道路/軌道/船舶,綜合 | 照射方式 | 外照式 |
|產(chǎn)品概述
光源：Gloria-SC-P-UVE 超連續(xù)譜激光器的背景
產(chǎn)品簡介
在1970年，激光問世十年后，出現(xiàn)了一項革命性的技術(shù)——超連續(xù)譜激光。它是一種具有極寬帶寬的新型光源，結(jié)合了普通光源（如自發(fā)輻射光）的寬光譜特性和單色激光的空間相干性、方向性和高亮度。相比于傳統(tǒng)的鹵素光源，超連續(xù)譜激光具有來自激光光源的高度相干性，其振幅和相位噪聲波動保持了傳統(tǒng)激光的噪聲特性。與普通單色激光不同的是，超連續(xù)譜激光的光譜寬度超過100納米，有時甚至覆蓋數(shù)萬納米。
超連續(xù)譜激光的生成（Supercontinuum Generation，SCG）是強激光與介質(zhì)之間的非線性相互作用的結(jié)果。當窄帶激光射入非線性介質(zhì)時，激光在多種非線性效應(yīng)（如自相位調(diào)制、交叉相位調(diào)制、四波混頻和受激拉曼散射）和色散的共同影響下，向短波和長波方向擴展，最終將脈沖激光轉(zhuǎn)換為超連續(xù)譜激光。
在大多數(shù)商業(yè)儀器中，光子晶體光纖（PCF）通常被用作理想的非線性介質(zhì)。光子晶體光纖能更有效地將激光束約束在纖芯中，增強激光與材料之間的非線性相互作用，從而降低對泵浦激光功率的需求，同時增加傳輸距離，提高輸出光的光束質(zhì)量。然而，設(shè)計和制造光子晶體光纖需要大量的資本投入和知識產(chǎn)權(quán)保護，這一過程非常復(fù)雜。
對于新進入這一領(lǐng)域的制造商而言，面臨的主要挑戰(zhàn)有兩個：一是確保超連續(xù)譜光源的穩(wěn)定性，二是保證光子晶體光纖的穩(wěn)定性和可靠性。
光源：Gloria-SC-P-UVE 超連續(xù)譜激光器產(chǎn)品特色
· 短波拓展到紫外
· 高功率可選
· 重復(fù)頻率、輸出功率可調(diào)
· 高穩(wěn)定性
產(chǎn)品應(yīng)用
· 光纖表征Fiber characterization
· 納米粒子和量子點Nanoparticles and quantum dots
· 石墨烯和碳納米管Graphene and carbon nanotubes
· 納米結(jié)構(gòu)表征Characterization of Nanostructures
· 高光譜成像Hyperspectral imaging
· 光學(xué)相干層析Optical coherence tomography (OCT)
· 光伏材料表征Characterization of photovoltaic materials
· 材料微觀缺陷檢測Material micro-defect detection
典型參數(shù)
脈沖寬度 | 450 ps |
重頻可變范圍 | 1.5 MHz-3 MHz |
光譜覆蓋范圍 | 380-2400 nm |
最大輸出功率 | 7 W |
偏振情況 | 非偏 |
輸出光束 | 高斯，基模 |
典型 M2（>430nm） | 1.1 |
光斑大小 | ≈1.5mm @ 530nm ≈2.5mm @ 1100nm |
功率穩(wěn)定性（RMS） | 0.5 % |
滿功率輸出超連續(xù)光譜及脈沖情況
輸出功率為7W時的超連續(xù)譜光譜
輸出脈沖圖
16
化工儀器網(wǎng)