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當(dāng)前位置:合肥重光電子科技有限公司>>產(chǎn)品展示>>涂膠顯影機(jī)>>勻膠機(jī)
MSD-150D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝。該設(shè)備主要由顯影腔單元、自動(dòng)擺臂單元、 以及供液系統(tǒng)、主軸系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成,整機(jī)采用框架結(jié)構(gòu),外表為鏡...
設(shè)備簡(jiǎn)介:桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī),用于對(duì)均勻性要求較高的表面涂布工藝,將光刻膠溶液手動(dòng)涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜,主要應(yīng)用于12寸以?xún)?nèi)...
應(yīng)用:在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,滴注各類(lèi)膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。應(yīng)用:在...
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