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            • 實驗室無掩膜曝光機

              實驗室無掩膜曝光機CG-MLC6系列直寫光刻機是一款精巧型光刻產(chǎn)品。該設(shè)備采用數(shù)字光刻技術(shù),無需掩模 版,能夠直接將版圖信息轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的襯底上。CG-ML...

              型號: CG-MLC6 所在地:合肥市參考價: ¥1更新時間:2025/3/22 17:46:46 對比
              激光直寫無掩膜光刻機曝光機海德堡
            • 半自動光刻機

              產(chǎn)品概述:應(yīng)用于3D封裝、LED、微機電系統(tǒng)、化合物半導(dǎo)體、功率器件等領(lǐng)域主要配置:自動對準(zhǔn)、自動曝光、LED光源、機器視覺對準(zhǔn)系統(tǒng)、高精度硅片承載臺、自動楔形...

              型號: CG-920 所在地:合肥市參考價: ¥1更新時間:2025/3/22 17:41:18 對比
              光刻機曝光機光刻系統(tǒng)曝光系統(tǒng)光刻工藝

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