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07-21雙溫區(qū)管式爐設(shè)備結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)
雙溫區(qū)管式爐指的是有兩個(gè)加熱區(qū),兩個(gè)溫區(qū)可以獨(dú)立控制,設(shè)置不同的溫度。硅鉬棒建議放在高溫區(qū),其zui高溫度可達(dá)到1200℃,并可通過調(diào)節(jié)兩個(gè)溫區(qū)的控溫程序使?fàn)t管內(nèi)溫場形成一溫度梯度。兩個(gè)溫區(qū)分別由兩個(gè)獨(dú)立的溫控系統(tǒng)來控制,而且都為PID30段程序化控溫。此系列管式爐可以用CVD方法來生長納米材料和制備各種薄膜,雙溫區(qū)管式爐的升降速率快,是各大高校,研究院,工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié),氣氛還原,CVD實(shí)驗(yàn),真空退火的理想設(shè)備。雙溫區(qū)管式爐是國家標(biāo)準(zhǔn)節(jié)能型周期式作業(yè)爐,超節(jié)能結(jié)構(gòu),采用先進(jìn)的復(fù)合爐襯結(jié)構(gòu)2021
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07-19小型真空管式爐在使用時(shí)有哪些不一樣的技術(shù)
小型真空管式爐成套供應(yīng)范圍有溫度控制器、熱電偶、補(bǔ)償導(dǎo)線等。溫度控制有繼電器控制、可控硅控制二種,由于是間歇式作業(yè)爐,一般都采用40段PlD可編程控制,能嚴(yán)格控制產(chǎn)品的燒制過程。小型真空管式爐在使用時(shí)很多人都認(rèn)為很簡單,但廠家認(rèn)為在使用時(shí)還是有一些不一樣的技術(shù)在里面:1、頭一次使用或長期停用后再次使用時(shí),必須進(jìn)行烘爐。烘爐的時(shí)間應(yīng)為室溫200℃四小時(shí)。200℃至600℃四小時(shí)。使用時(shí),爐溫zui高不得超過額定溫度,以免燒毀電熱元件。禁止向爐內(nèi)灌注各種液體及易溶解的金屬,在低于zui高溫度50℃以2021
07-19小型真空管式爐在進(jìn)行實(shí)驗(yàn)時(shí)需要注意哪些事項(xiàng)?
小型真空管式爐的運(yùn)用在某一既定溫度下,可以預(yù)抽真空并能通氫氣、氬氣、氮?dú)狻⒀鯕?、一氧化碳、氨分解氣等氣體,在進(jìn)行這些實(shí)驗(yàn)時(shí)需要注意以下幾點(diǎn)事項(xiàng):1、冷爐使用時(shí),由于管式爐膛是冷的,須大量吸熱,所以低溫段升溫速率不易過快,各溫度段的升溫速率差別不易太大,設(shè)置升溫速率時(shí)應(yīng)充分考慮所燒結(jié)材料的物理化學(xué)性質(zhì),以免出現(xiàn)噴料現(xiàn)象,污染爐管。2、實(shí)驗(yàn)樣品的安裝和支撐架的熱導(dǎo)率要低,以確保試驗(yàn)樣品與安裝和支撐架間處于一種絕熱的狀態(tài);3、爐溫盡量不要超過額定溫度,以免損壞加熱元件及爐襯。4、檢查高溫真空管式爐的試2021
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07-15五個(gè)特點(diǎn)發(fā)揮雙溫區(qū)管式爐*功效
雙溫區(qū)管式爐顧名思義,是有兩個(gè)可控溫段的管式爐,這是專為高等院校、科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)對陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、耐火材料、新材料開發(fā)、特種材料、建材、金屬、非金屬及其它化和物資料進(jìn)行燒結(jié)、融化、分析生產(chǎn)而研發(fā)的設(shè)備。五個(gè)特點(diǎn)發(fā)揮其*功效。1、雙層殼體結(jié)構(gòu),配有涼風(fēng)體系主動(dòng)降溫爐殼溫度不超越50℃;2、爐膛原料:日本技能真空吸附成型的優(yōu)質(zhì)高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛,資料保溫性能好、反射率高、溫場均衡;3、不銹鋼密封法蘭,拆卸方便,法蘭上裝有精密針閥,法蘭上含有真空連接口,進(jìn)出氣口以上信息由企業(yè)自行提供,信息內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負(fù)責(zé),化工儀器網(wǎng)對此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。
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