7當(dāng)前位置：納糯三維科技（上海）有限公司Nanoscribe>>技術(shù)文章展示
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2024
06-242024
06-20雙光子灰度光刻技術(shù)推進(jìn)神經(jīng)微探針研究進(jìn)程
澳大利亞迪肯大學(xué)的AbbasZ.Kouzani課題組在BiomedicalMicrodevices上發(fā)表了論文，設(shè)計(jì)了一種自硬化柔順的皮層內(nèi)微探針，旨在解決傳統(tǒng)神經(jīng)微探針在植入和使用過程中面臨的挑戰(zhàn)。神經(jīng)微探針在腦功能、腦疾病和腦機(jī)接口研究中發(fā)揮著重要作用。為了實(shí)現(xiàn)高精度的腦記錄和刺激，皮層內(nèi)微探針需要植入大腦深處。然而，由于神經(jīng)組織和植入的固定微探針之間的彈性模量差異較大，由生理和行為運(yùn)動引起的大腦微運(yùn)動會在手術(shù)過程中損傷周圍的神經(jīng)組織。這種組織損傷會激活大腦的免疫系統(tǒng)，進(jìn)而影響微探針的功能，2024
06-202024
06-18打破傳統(tǒng)束縛：新型多焦點(diǎn)超透鏡革新光學(xué)成像
上海交通大學(xué)的鄔崇朝及其團(tuán)隊(duì)在ADVANCEDSCIENCE上發(fā)表了一篇論文，提出并實(shí)驗(yàn)證明了一種偏振無關(guān)的全介質(zhì)多焦點(diǎn)稀疏孔徑（MSA）超透鏡。金屬超透鏡在可見光譜中的透射效率由于電磁波與金屬中自由電子之間的相互作用而顯著降低，嚴(yán)重限制了其實(shí)際應(yīng)用。而介質(zhì)納米結(jié)構(gòu)，如硅（Si）、二氧化鈦（TiO2）、氮化鎵（GaN）和IP-Dip光刻膠等材料，已顯示出克服金屬納米結(jié)構(gòu)弱點(diǎn)的潛力?？紤]到偏振相關(guān)超透鏡對光源和透射效率的限制，設(shè)計(jì)用于產(chǎn)生多個(gè)焦點(diǎn)的偏振無關(guān)納米結(jié)構(gòu)具有重要意義。這項(xiàng)研究中提出的MS2024
06-14雙光子3D打印大腦：MRI微觀結(jié)構(gòu)驗(yàn)證的新篇章
維也納醫(yī)科大學(xué)(MedicalUniversityofVienna)的MichaelWoletz團(tuán)隊(duì)在ADVANCEDMATERIALSTECHNOLOGIES上發(fā)表了論文，研究發(fā)現(xiàn)，磁共振成像（MRI）由于其非侵入性、多功能性和出色的對比度，已成為現(xiàn)代醫(yī)療保健中重要的工具。然而，MRI仍有很大的發(fā)展?jié)摿?。例如，擴(kuò)散成像（dMRI）是一種高潛力的模式，它利用水?dāng)U散常數(shù)的方向變化，這種變化源于局部組織的微觀結(jié)構(gòu)細(xì)節(jié)。dMRI克服了傳統(tǒng)MRI的分辨率限制，并提供了額外的、臨床相關(guān)的數(shù)據(jù)。不幸的是，復(fù)2024
06-132024
06-122024
06-122024
06-112024
06-052024
05-23光速下的藝術(shù)：雙光子微納米3D打印的創(chuàng)造力
隨著科技的飛速發(fā)展，3D打印技術(shù)已經(jīng)不再是遙不可及的科幻概念，而是逐步走進(jìn)了我們的日常生活。然而，在微觀世界的探索中，傳統(tǒng)的3D打印技術(shù)往往顯得力不從心。此時(shí)，雙光子微納米3D打印技術(shù)的出現(xiàn)，為我們打開了一扇全新的大門，將創(chuàng)造力推向了光速下的新高度。雙光子微納米3D打印技術(shù)，利用雙光子聚合的原理，在極短的時(shí)間內(nèi)將材料精確地逐層堆積，形成微納米級別的三維結(jié)構(gòu)。這一技術(shù)的核心在于其超高的精度和速度，使得打印出的結(jié)構(gòu)不僅細(xì)致入微，而且能夠在極短的時(shí)間內(nèi)完成，真正實(shí)現(xiàn)了光速下的創(chuàng)造力。在藝術(shù)創(chuàng)作領(lǐng)域，雙2024
05-202024
05-142024
05-072024
04-24無掩膜光刻系統(tǒng)：推動半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展的新動力
在科技日新月異的今天，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正經(jīng)歷著變革。其中，無掩膜光刻系統(tǒng)以其優(yōu)勢，正成為推動半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展的新動力。無掩膜光刻系統(tǒng)，顧名思義，是一種無需傳統(tǒng)掩膜的光刻技術(shù)。它利用激光束或電子束直接在半導(dǎo)體材料表面進(jìn)行圖案刻蝕，從而實(shí)現(xiàn)了高精度、高效率的制造過程。這一技術(shù)的出現(xiàn)，不僅突破了傳統(tǒng)光刻技術(shù)的局限，更為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的創(chuàng)新發(fā)展提供了強(qiáng)大的技術(shù)支持。首先，無掩膜光刻系統(tǒng)的高精度特性使得半導(dǎo)體器件的制造更加精細(xì)。傳統(tǒng)的光刻技術(shù)受限于掩膜版的精度和制作成本，往往難以滿足高精度制造的需求。而無掩膜光刻2024
04-22高效準(zhǔn)確，創(chuàng)新無限——無掩膜光刻系統(tǒng)的技術(shù)突破
隨著科技的飛速發(fā)展，無掩膜光刻系統(tǒng)作為微納制造領(lǐng)域的核心工具，正在經(jīng)歷一場技術(shù)革命。這一系統(tǒng)以其高效準(zhǔn)確的特點(diǎn)，領(lǐng)著微納制造技術(shù)的創(chuàng)新與發(fā)展，為科技進(jìn)步注入了強(qiáng)大的動力。無掩膜光刻系統(tǒng)摒棄了傳統(tǒng)光刻技術(shù)中需要制作物理掩膜的繁瑣步驟，通過數(shù)字化設(shè)計(jì)直接控制光束進(jìn)行加工，從而實(shí)現(xiàn)了快速、靈活的制造過程。這一技術(shù)的突破，極大地提高了制造效率，縮短了產(chǎn)品研發(fā)周期，為企業(yè)帶來了可觀的經(jīng)濟(jì)效益。同時(shí)，無掩膜光刻系統(tǒng)還以其高精度的特點(diǎn)贏得了廣泛贊譽(yù)。通過精密的光學(xué)系統(tǒng)和控制算法，系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)對微米甚至納米級結(jié)2024
04-17靈活高效，定制無憂——無掩膜光刻系統(tǒng)的優(yōu)勢解析
在微電子制造和納米技術(shù)領(lǐng)域，光刻技術(shù)一直扮演著至關(guān)重要的角色。無掩膜光刻系統(tǒng)作為近年來的一項(xiàng)技術(shù)革新，以其靈活高效、定制無憂的顯著優(yōu)勢，逐漸在市場中占據(jù)了一席之地。無掩膜光刻系統(tǒng)最大的優(yōu)勢在于其靈活性。相較于傳統(tǒng)的有掩膜光刻技術(shù)，無掩膜光刻無需預(yù)先制作物理掩膜版，而是通過數(shù)字控制系統(tǒng)直接生成所需的圖案。這意味著，無論是在設(shè)計(jì)階段還是生產(chǎn)過程中，用戶都可以輕松地進(jìn)行圖案的修改和更新，無需擔(dān)心物理掩膜版的制作和更換成本。這種靈活性極大地縮短了產(chǎn)品開發(fā)周期，降低了生產(chǎn)成本，同時(shí)也為科研人員和工程師提供2024
04-122024
04-102024
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