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            鈣鈦礦鍍膜機(jī)

            具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            產(chǎn)品標(biāo)簽

            蒸發(fā)鍍膜

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            上海添時(shí)科學(xué)儀器有限公司是一家代理國(guó)內(nèi)外儀器的經(jīng)銷(xiāo)及技術(shù)服務(wù)的專(zhuān)業(yè)公司。國(guó)內(nèi)管式爐,退火爐,氣氛爐,真空感應(yīng)熔煉爐,箱式爐,手套箱,研磨拋光機(jī),電池測(cè)試恒溫箱,金剛石線(xiàn)切割機(jī),磁控濺射儀,蒸發(fā)鍍膜,PECVD設(shè)備供應(yīng)商!

            公司所涉及的產(chǎn)品遍布大專(zhuān)院校、科研單位、工廠(chǎng)企業(yè)、商檢、農(nóng)業(yè)、食品、超市、治金礦山、建筑、石油、路橋等行業(yè)。

            主要產(chǎn)品:生命科學(xué)儀器,化學(xué)分析儀器,光學(xué)儀器,物性測(cè)試儀器及設(shè)備,環(huán)保設(shè)備/流量?jī)x表,行業(yè)專(zhuān)用儀器,藥物檢測(cè)儀器,種子儀器,農(nóng)業(yè)和食品儀器,石油儀器,煤炭?jī)x器,測(cè)繪儀表,建筑儀器,公路儀器,地質(zhì)儀器,電工儀器儀表,自動(dòng)化儀表,氣象儀器,環(huán)保儀器,電教器材,無(wú)線(xiàn)電儀器,小型機(jī)械等。并且提供與生物技術(shù)相關(guān)的實(shí)驗(yàn)室科研儀器設(shè)備、實(shí)驗(yàn)室耗材與試劑、實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)、規(guī)劃、改建等服務(wù)。公司以“高品質(zhì),高服務(wù),高信譽(yù)”贏得各地市場(chǎng),各個(gè)領(lǐng)域的好評(píng)和歡迎。

            未來(lái),公司將引進(jìn)和代理更多國(guó)內(nèi)產(chǎn)品,并將研發(fā)自有品牌的產(chǎn)品以滿(mǎn)足市場(chǎng)不同的需求,以更高質(zhì)量的產(chǎn)品,更高質(zhì)量的服務(wù),更高效率的運(yùn)營(yíng),樸素而先進(jìn)的管理理念,為客戶(hù)提供更優(yōu)良的產(chǎn)品和服務(wù)!

            公司宗旨:客戶(hù)至上 誠(chéng)信為本 開(kāi)拓創(chuàng)新 成就*




            紫外可見(jiàn)分光光度計(jì),原子熒光光度計(jì),原子吸收分光光度計(jì),紫外分光光度計(jì),氣相色譜儀,液相色譜儀,電子天平,旋光儀,熔點(diǎn)儀

            產(chǎn)地類(lèi)別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 面議
            應(yīng)用領(lǐng)域 化工,能源,電子,電氣,綜合

            鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等,可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗(yàn)工作,廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無(wú)機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽(yáng)能電池、OLED等研究領(lǐng)域。鈣鈦礦鍍膜機(jī)工作過(guò)程中樣品位于真空室上方,蒸發(fā)源位于真空室下方,向上蒸發(fā)鍍膜,且蒸發(fā)源帶有擋板裝置,防止蒸發(fā)源被污染。1、樣品位于真空室上方,蒸發(fā)源位于真空室下方,向上蒸發(fā)鍍膜,且蒸發(fā)源帶有擋板裝置。
            2、設(shè)有烘烤加熱功能,可在鍍膜過(guò)程中加熱樣品,最高烘烤加熱溫度為180℃。
            3、設(shè)有斷水、斷電連鎖保護(hù)報(bào)警裝置及防誤操作保護(hù)報(bào)警裝置。

            產(chǎn)品名稱(chēng)鈣鈦礦鍍膜機(jī)
            主要參數(shù)
            1、鍍膜室:不銹鋼材料,采用方形前后開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu),內(nèi)帶有防污板,腔室尺寸約為600mm×450mm×450mm
            2、真空排氣系統(tǒng):采用分子泵+機(jī)械泵系統(tǒng)
            3、真空度:鍍膜室極限真空≤6×10-4Pa
            4、系統(tǒng)漏率:≤1×10-7Pa
            5、蒸發(fā)源:安裝在真空室的下底上;
            有機(jī)蒸發(fā)源4個(gè)、容積5ml,2臺(tái)蒸發(fā)電源,可測(cè)溫、控溫,加熱溫度 400℃,功率0.5KW;
            無(wú)機(jī)蒸發(fā)源4套、容積5ml,2臺(tái)蒸發(fā)電源,加熱電流300A,功率3.2KW; 蒸發(fā)源擋板采用自動(dòng)磁力控制方式控制其開(kāi)啟
            6、樣品架:安裝在真空室的上蓋上,可放置?120mm的樣品、載玻片,旋轉(zhuǎn)速度0-30rpm
            7、加熱溫度:RT-180℃,測(cè)溫、控溫
            8、膜厚控制儀:石英晶振膜厚控制儀,膜厚測(cè)量范圍0-999999?




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