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            雙腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)

            具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            • 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
            • 品牌 其他品牌
            • 型號(hào)
            • 產(chǎn)地
            • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
            • 更新時(shí)間 2024/7/10 14:27:23
            • 訪問次數(shù) 729
            產(chǎn)品標(biāo)簽

            雙腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)

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            北京瑞科中儀科技有限公司專注半導(dǎo)體材料研究分析設(shè)備的研發(fā)和應(yīng)用。專業(yè)的團(tuán)隊(duì),專精的服務(wù),提供理想的解決方案。

            我們長期專注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷和代理,為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的分析解決方案。以專業(yè)技能為導(dǎo)向,用科技來解決用戶在科研中遇到的難題。專業(yè)的技術(shù)工程師和科研工作者進(jìn)行現(xiàn)場演示和技術(shù)交流,打消顧慮,彼此協(xié)作,為我國的科研領(lǐng)域譜寫新篇章。

            北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機(jī)、等離子清洗機(jī)、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備儀器。

            客戶至上的服務(wù)理念,以人為本的企業(yè)文化,我們始終為用戶提供專業(yè)的服務(wù)!

            合作丨共贏,選擇我們,選擇未來!

             

            半導(dǎo)體材料分析,材料刻蝕

            價(jià)格區(qū)間 10萬-50萬 應(yīng)用領(lǐng)域 化工,石油,交通,制藥,綜合
            腔體尺寸 球形腔體,直徑:400 mm 樣品尺寸 1 英寸或 2 英寸向下兼容
            樣品加熱 輻射式加熱 / 電阻式加熱 / 激光加熱 1000 ℃ / 950 ℃ / 1400 ℃ 靶臺(tái)操控 6 靶位,1 英寸靶托,公自轉(zhuǎn)設(shè)計(jì)
            抽氣泵組 國產(chǎn): BWVAC油泵,360 l/min KYKY分子泵,600 l/s 真空測量 國產(chǎn):Reborn電阻電離復(fù)合規(guī)
            氣路 國產(chǎn):質(zhì)量流量計(jì)Flowmethod,50 / 100 sccm 控壓方式 手動(dòng)角閥/漏閥控壓
            極限真空 手動(dòng)角閥/漏閥控壓 極限真空 5 x 10-9 mbar

            雙腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)Dual Chamber Pulsed Laser Deposition System)是一種先進(jìn)的薄膜制備技術(shù),它結(jié)合了脈沖激光沉積(PLD)技術(shù)和雙腔體設(shè)計(jì)的優(yōu)勢。這種系統(tǒng)通常用于在實(shí)驗(yàn)室環(huán)境中生長高質(zhì)量的薄膜材料,廣泛應(yīng)用于物理、化學(xué)、材料科學(xué)和工程等領(lǐng)域。

            脈沖激光沉積(PLD)是一種物理氣相沉積技術(shù),它利用高能量的脈沖激光束轟擊靶材表面,使靶材物質(zhì)迅速蒸發(fā)、電離并形成等離子體羽輝。這些高能量的離子和原子隨后沉積在基片表面,經(jīng)過成核和生長過程形成薄膜。PLD具有生長速度快、薄膜成分易于控制、能夠保持靶材的原始結(jié)構(gòu)等優(yōu)點(diǎn)。

            雙腔體設(shè)計(jì)則進(jìn)一步提高了PLD系統(tǒng)的靈活性和功能性。該系統(tǒng)通常包含兩個(gè)獨(dú)立的沉積腔室,每個(gè)腔室都可以獨(dú)立地進(jìn)行薄膜生長過程。這種設(shè)計(jì)允許研究人員在同一臺(tái)設(shè)備上同時(shí)制備不同種類的薄膜,或者在不同的生長條件下進(jìn)行對(duì)比實(shí)驗(yàn)。此外,雙腔體設(shè)計(jì)還可以減少實(shí)驗(yàn)過程中的污染和交叉污染風(fēng)險(xiǎn),提高實(shí)驗(yàn)結(jié)果的可靠性。

            雙腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)通常配備有先進(jìn)的光學(xué)系統(tǒng)、激光系統(tǒng)、真空系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等組件。光學(xué)系統(tǒng)用于精確控制激光束的聚焦和定位,確保激光能夠準(zhǔn)確地轟擊靶材表面。激光系統(tǒng)則提供高能量的脈沖激光束,激發(fā)靶材物質(zhì)形成等離子體羽輝。真空系統(tǒng)則用于維持腔室內(nèi)的高真空環(huán)境,防止外界氣體對(duì)薄膜生長的干擾??刂葡到y(tǒng)則負(fù)責(zé)整個(gè)系統(tǒng)的自動(dòng)化運(yùn)行和參數(shù)調(diào)整,確保實(shí)驗(yàn)過程的穩(wěn)定性和可重復(fù)性。

            總之,雙腔 體脈沖激光沉積系統(tǒng)是一種高效、靈活且可靠的薄膜制備技術(shù),它在材料科學(xué)研究和新材料開發(fā)中發(fā)揮著重要作用。通過精確控制實(shí)驗(yàn)條件和參數(shù),研究人員可以制備出具有優(yōu)異性能的新型薄膜材料,為推動(dòng)科技進(jìn)步和創(chuàng)新做出重要貢獻(xiàn)。




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