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            邁可諾技術(shù)有限公司

            主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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            您現(xiàn)在的位置: 邁可諾技術(shù)有限公司>>等離子清洗機(jī)>>STAR系列等離子清洗機(jī)>> PlasmaStar 100/100 RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 100

            公司信息

            聯(lián)人:
            鄧經(jīng)理
            話:
            4008800298
            機(jī):
            13681069478
            真:
            址:
            洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
            編:
            個(gè)化:
            www.mycro.net.cn
            網(wǎng)址:
            www.mycro.cn
            鋪:
            http://apwanrong.com/st119375/
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            PlasmaStar 100/100 RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 100
            反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 100
            參考價(jià) 面議
            具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            • 型號 PlasmaStar 100/100 RIE
            • 品牌 其他品牌
            • 廠商性質(zhì) 代理商
            • 所在地 北京市

            更新時(shí)間:2024-05-16 16:47:05瀏覽次數(shù):6609

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            【簡單介紹】
            產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 面議
            應(yīng)用領(lǐng)域 電子
            反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 100儀器介紹
            PlasmaSTAR®系列等離子處理系統(tǒng)適合處理所有的材料,擁有多種腔室和電極配置,可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸。占地面積小,用于各種等離子工藝的模塊化腔室和電極配置。此外,觸摸屏計(jì)算機(jī)控制,多級程序控制和組件控制,操作簡單。PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統(tǒng)的*功能。
            【詳細(xì)說明】

            腔室材料是硬質(zhì)陽極氧化鋁, 有幾種不同的電極設(shè)計(jì),包括用于反應(yīng)離子刻蝕(RIE)和平面處理的水冷平板電極,用于表面清洗或處理的交替多層托盤電極,用于小化離子損傷的下游電極,和用于普通的圓柱形籠式電極。

            1、腔體尺寸:直徑≥200mm,深度≥280mm;

            2、腔體材質(zhì):硬質(zhì)陽極氧化鋁矩形腔體;

            3、處理腔背面材質(zhì):鋁;

            4、處理腔門:要求全自動腔門;

            5、兩路工藝氣體,≥2路質(zhì)量流量控制器控制氣體流量,氣體輸入腔室?guī)蛄髟O(shè)計(jì);

            6、射頻功率:0~600W連續(xù)可調(diào),13.56MHz,自動匹配,自然風(fēng)冷;

            7、配備RIE平面水冷平板電極;

            8、7英寸及以上顯示器、觸摸屏、圖形用戶界面; 

            9、程序控制:觸摸屏電腦控制,無線程序存儲;

            10、Windows操作系統(tǒng),兼容Windows office軟件,USB接口,可進(jìn)行外部電腦遠(yuǎn)程控制的功能;

            11、狀態(tài)和出錯信息提示,過程數(shù)據(jù)和出錯信息存儲,可選擇自動和手動操作模式,過程數(shù)據(jù)可以導(dǎo)出,工藝參數(shù)以圖形方式呈現(xiàn),可實(shí)時(shí)監(jiān)控,自動實(shí)現(xiàn)泄露檢測;

            12、配套緊急急停按鈕(EMO),配套電路斷路器,機(jī)械聯(lián)鎖(門傳感器)和真空聯(lián)鎖(壓力開關(guān)),通過軟件可進(jìn)行遠(yuǎn)程的真空聯(lián)鎖;

            13、典型的光刻膠刻蝕速率:80nm/min;

            14、典型工藝均勻性:≥±10%

             



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