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            邁可諾技術(shù)有限公司

            主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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            您現(xiàn)在的位置: 邁可諾技術(shù)有限公司>>光刻膠>>SU-8膠>> 2005/2010/2025光刻膠SU-8 2000

            公司信息

            聯(lián)人:
            鄧經(jīng)理
            話:
            4008800298
            機(jī):
            13681069478
            真:
            址:
            洪山區(qū)珞獅南路147號(hào)未來(lái)城A棟
            編:
            個(gè)化:
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            2005/2010/2025光刻膠SU-8 2000
            光刻膠SU-8 2000
            參考價(jià) 面議
            具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            • 型號(hào) 2005/2010/2025
            • 品牌 其他品牌
            • 廠商性質(zhì) 代理商
            • 所在地 北京市

            更新時(shí)間:2024-05-17 08:34:15瀏覽次數(shù):2949

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            【簡(jiǎn)單介紹】
            供貨周期 一個(gè)月 規(guī)格 100ML/250ML/500ML/1L
            應(yīng)用領(lǐng)域 電子 主要用途 改善涂層性能 ,更快干燥以提高產(chǎn)量 ,垂直側(cè)壁
            SU-8 2000是一種高對(duì)比度,基于環(huán)氧的光致抗蝕劑,設(shè)計(jì)用于微加工和其他微電子應(yīng)用,需要厚,化學(xué)和熱穩(wěn)定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進(jìn)配方,多年來(lái)已被MEMS生產(chǎn)商廣泛使用。使用更快干燥,極性更大的溶劑系統(tǒng)可改善涂層質(zhì)量并提高工藝產(chǎn)量。 SU-8 2000有十二種標(biāo)準(zhǔn)粘度。通過(guò)單道涂覆工藝可以實(shí)現(xiàn)0.5至> 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯(lián)的部分不溶于液體顯影劑。
            【詳細(xì)說(shuō)明】

            加工準(zhǔn)則

            SU-8 2000光刻膠通常用常規(guī)的UV(350-400 nm)輻射曝光,盡管建議使用i-line(365 nm)波長(zhǎng)。 SU-8 2000也可能會(huì)受到電子束或X射線輻射的照射。 曝光后,交聯(lián)在兩個(gè)步驟中進(jìn)行(1)在曝光步驟中形成強(qiáng)酸,然后(2)在曝光后烘烤(PEB)步驟中進(jìn)行酸催化的熱驅(qū)動(dòng)環(huán)氧交聯(lián)。 正常過(guò)程是:旋涂,軟烤,曝光,PEB,然后顯影。

            SU-8 2000功能

            •高縱橫比成像

            •單層涂膜厚度為0.5至> 200mm

            •改善涂層性能

            •更快干燥以提高產(chǎn)量

            •近紫外線(350-400 nm)處理

            •垂直側(cè)壁

            硬烤(固化)

            SU-8 2000具有良好的機(jī)械性能。但是,對(duì)于要保留成像的抗蝕劑作為終設(shè)備一部分的應(yīng)用,可以將硬烘烤結(jié)合到該過(guò)程中。通常僅在終設(shè)備或零件在正常運(yùn)行期間要進(jìn)行熱處理時(shí)才需要這樣做。添加了硬烘烤或終固化步驟,以確保SU-8 2000的性能在實(shí)際使用中不會(huì)改變。 SU-8 2000是一種熱敏樹(shù)脂,因此暴露于比以前高的溫度下,其性能會(huì)不斷變化。我們建議使用的終烘烤溫度要比設(shè)備的預(yù)期工作溫度高10°C。根據(jù)所需的固化程度,通常使用的烘烤溫度范圍為150°C至250°C,烘烤時(shí)間為5至30分鐘。注意:硬烘烤步驟還可用于對(duì)顯影后可能出現(xiàn)的任何表面裂紋進(jìn)行退火。建議的步驟是在150°C下烘烤幾分鐘。這適用于所有膜厚度



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