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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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| 參考價(jià) | 面議 |
更新時(shí)間：2024-05-17 09:11:17瀏覽次數(shù)：1364
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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
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光伏光譜橢偏儀
型號(hào)：SE-SOLAR
橢圓偏振光譜儀SE-Solar專為光伏（PV）應(yīng)用而設(shè)計(jì)。它可以配置為覆蓋DUV到NIR范圍，可以使用手動(dòng)測(cè)角儀以5度間隔改變?nèi)肷浣?，也可以配置為自?dòng)測(cè)角儀，分辨率為0.001度?；陉嚵械臋z測(cè)設(shè)置可為用戶提供快速測(cè)量，每個(gè)數(shù)據(jù)只需幾秒鐘。當(dāng)需要映射或?qū)崟r(shí)原位測(cè)量時(shí)，這是所有SE模型中的*選擇。如果需要，可以將波長(zhǎng)范圍擴(kuò)展到1700nm，作為CdTe，CIGS薄膜表征等應(yīng)用的選擇。傾斜臺(tái)，用于測(cè)量帶紋理的單晶片上的薄膜。根據(jù)需要，可以使用DUV和Vis-NIR組合光源或單個(gè)Arc Xenon光源。在產(chǎn)品照片中，配備了156x156mm的電動(dòng)測(cè)繪臺(tái)。此外，垂直入射的反射儀也可以集成在一起。還有其他幾種選擇。如果有特殊需要，請(qǐng)隨時(shí)與我們聯(lián)系。我們的目標(biāo)是提供一個(gè)工具，無(wú)論它是標(biāo)準(zhǔn)配置還是定制的，都可以滿足您的應(yīng)用程序需求。
應(yīng)用范圍：
•抗反射涂層，SiNx，SiOx ..
•CdTe，CIGS，CdS，Mo ....
•非晶，納米和晶體硅
•各種TCO膜（ITO，FTO，IZO，AZO ...）
特征：
•易于使用，基于Window的軟件進(jìn)行操作
•*光學(xué)設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)*系統(tǒng)性能
•大功率DUV-VIS組合光源或Xenon Arc光源，適用于寬帶應(yīng)用
•基于陣列的探測(cè)器系統(tǒng)可確?？焖贉y(cè)量
•同時(shí)測(cè)量薄膜厚度和折射率
•系統(tǒng)附帶全面的光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)庫(kù)
•*TFProbe 3.3軟件允許用戶為每張膜使用NK表，色散或有效介質(zhì)近似值（EMA）
•三種不同的用戶級(jí)別控制：工程師模式，系統(tǒng)服務(wù)模式和簡(jiǎn)易用戶模式
•靈活的工程師模式，適用于各種配方設(shè)置和光學(xué)模型測(cè)試
•強(qiáng)大的一鍵式按鈕解決方案，可進(jìn)行快速和常規(guī)的測(cè)量
•可配置的測(cè)量參數(shù)，操作簡(jiǎn)便
•全自動(dòng)系統(tǒng)校準(zhǔn)和初始化
•直接從樣品信號(hào)獲得精確的樣品比對(duì)接口，無(wú)需外部光學(xué)器件
•精確的高度和傾斜度調(diào)整
•適用于許多不同類型，厚度不同的基材
•各種選件，附件可用于特殊配置，例如測(cè)繪臺(tái)，波長(zhǎng)擴(kuò)展，焦點(diǎn)等。
•2D和3D輸出圖形和用戶友好的數(shù)據(jù)管理界面
系統(tǒng)配置：
型號(hào)：SE-SR-太陽(yáng)能（映射階段是可選的）
探測(cè)器：探測(cè)器陣列
光源：大功率DUV-Vis-NIR組合或氙弧燈光源
入射角變化：手動(dòng)
階段：使用XY配置自動(dòng)映射
軟件：TFProbe 3.3
電腦：Intel i3處理器或更高配置
顯示器22英寸寬屏LCD
功率：110– 240 VAC / 50-60Hz，6 A
