目錄:愛發(fā)科費(fèi)恩斯（南京）儀器有限公司>>質(zhì)譜儀>>二次離子質(zhì)譜儀>> PHI ADEPT 1010動態(tài)二次離子質(zhì)譜儀
| 價格區(qū)間 | 面議 | 儀器種類 | 飛行時間 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電子/電池,綜合 |
優(yōu)勢
ULVAC-PHI 最新設(shè)計(jì)的四極桿-二次離子質(zhì)譜儀ADPT1010，在原有的PHI6300和PHI6600的基礎(chǔ)上，改善了離子光學(xué)系統(tǒng)，是在一次離子能量低至250eV時，仍保持有效的濺射束流的動態(tài)二次離子質(zhì)譜系統(tǒng)（D-SIMS）。
特點(diǎn)
大束流低能量離子槍設(shè)計(jì)，極大的提高了深度分辨率
高性能離子光學(xué)系統(tǒng)，改善了二次離子傳輸效率，在提高分析效率的同時又提高了檢測靈敏度
高精度全自動5軸樣品操控臺
不同方向進(jìn)入檢測器的二次離子，均可被高靈敏地收集檢測
應(yīng)用實(shí)例分析
采用一次離子源Cs在加速5kV束流為100nA的條件下，分析GaAs中注入的H，C，O元素。可以看到H檢測限值7.1X1016 atm/cm3，O檢測限值4.4X1015 atm/cm3，C檢測限值2.0X1015 atm/cm3。
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