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            目錄:北京精科智創(chuàng)科技發(fā)展有限公司>>材料制樣設(shè)備>>快速退火爐>> HTR-01 桌式4英寸快速退火爐

            HTR-01 桌式4英寸快速退火爐
            • HTR-01 桌式4英寸快速退火爐
            參考價 9999
            訂貨量 ≥1
            具體成交價以合同協(xié)議為準
            9999
            ≥1
            具體成交價以合同協(xié)議為準
            • 品牌 Microtrac/拜爾
            • 型號
            • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
            • 所在地 北京市
            屬性

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            >

            更新時間:2025-02-12 16:42:43瀏覽次數(shù):1148評價

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            HTR-01A快速退火爐系列采用紅外輻射加熱技術(shù),可實現(xiàn)1-10片樣品同時進行,可實現(xiàn)4寸晶圓片吋樣品快速升溫和降溫,同時搭配超高精度溫度控制系統(tǒng),可達到的溫場均勻性,對材料的快速熱處理(RTP)、快速退火(RTA)、快速熱氮化(RTN)、快速熱氧化(RTO)及金屬合金化等研究和生產(chǎn)起到重要作用。

            主要應(yīng)用領(lǐng)域:

            快速熱處理(RTP),快速退火(RTA),快速熱氧化(RTO),快速熱氮化(RT

            HTR-01 桌式4英寸快速退火爐

              

            HTR-01A快速退火爐系列采用紅外輻射加熱技術(shù),可實現(xiàn)1-10片樣品同時進行,可實現(xiàn)4寸晶圓片吋樣品快速升溫和降溫,同時搭配超高精度溫度控制系統(tǒng),可達到的溫場均勻性,對材料的快速熱處理(RTP)、快速退火(RTA)、快速熱氮化(RTN)、快速熱氧化(RTO)及金屬合金化等研究和生產(chǎn)起到重要作用。

            主要應(yīng)用領(lǐng)域:

            快速熱處理(RTP),快速退火(RTA),快速熱氧化(RTO),快速熱氮化(RTN);離子注入/接觸退火;

            金屬合金;

            熱氧化處理;

            化合物合金(砷化家、氮化物等);多晶硅退火;

            太陽能電池片退火;高溫退火;

            高溫擴散。

            產(chǎn)品特點

            ● 快速加熱和降溫: 最高可控升溫速率可達50 ℃/s,特定條件下可以達到100 ℃/s。冷壁水冷設(shè)計能夠達到較大的降溫速率,特定條件下可達30 ℃/s。

            ● 精確控溫: 采用工業(yè)級溫控器進行PID精確控溫,目標溫度與設(shè)定溫度曲線一致性高,可實現(xiàn)室溫至1200 ℃的溫度精確控制。

            ● 適應(yīng)多種工藝環(huán)境: 滿足多種工藝氣氛下的熱處理(氮氣、氬氣等)。同時,通過選配真空泵,可以在真空條件下進行退火,最高真空度可達10-5Pa。

            ● 配備觀察窗口: 通過觀察窗口,可以實時觀察熱處理過程中的樣品變化。同時,可以結(jié)合相關(guān)測試方法進行原位測試分析。

            ● 超高安全系數(shù): 采用爐壁超溫報警系統(tǒng)和冷卻水流量報警系統(tǒng),保障儀器使用安全。

            ● 售后服務(wù):,能快速反應(yīng)客戶售后需求。



            最大樣品尺寸

            4英寸(直徑20mm)

            控溫范圍

            RT~1200

            升溫速率(max)

            50℃/s

            高溫段降溫速率(max)

            600℃/min

            溫度均勻性

            ≦1%

            控溫精度

            ±0.1℃

            氣體流量

            標配1路,可擴展至多路

            放樣管徑

            Ф210mm*320mm

            放樣數(shù)量

                      4-10個

            真空度

               真空度可以達到10-5

                控制方式

            支持真空、氧化、還原、惰性氣體等工藝氣氛,也可設(shè)置通過軟件控制真空及通氣時間



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