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            合肥重光電子科技有限公司
                                                                        
            
										  中級會員 | 第1年									
            
                                    								
            

							
            
						
            
                        

					
            
										
            
						
            
                            							
            
								
            
								
            
									
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            當前位置：> 供求商機> CG-MLC6-實驗室無掩膜曝光機
            
					
            
				
            
			
            
		
            

	
            
		
            
			
            CG-MLC6-實驗室無掩膜曝光機
            
		
            
		
            
			
		
            
	
            
	
            
		
            
			
            
				
            
					
              
						
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							CG-MLC6-實驗室無掩膜曝光機
						
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            貨物所在地：安徽合肥市
            
                                        					
            所在地：         安徽省合肥市經(jīng)開區(qū)
            
                    					
            更新時間：2025-03-22 17:47:31
            
					
            瀏覽次數(shù)：20
            
					在線詢價收藏商機
					
            ( 聯(lián)系我們，請說明是在 化工儀器網(wǎng) 上看到的信息，謝謝?。?/p>
						                
            
				
            
			
            
		
            
	
            
	
            
		
            
				
			
            
				
            
					
					
            
							實驗室無掩膜曝光機

            CG-MLC6系列直寫光刻機是一款精巧型光刻產(chǎn)品。該設(shè)備采用數(shù)字光刻技術(shù)，無需掩模 版，能夠直接將版圖信息轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的襯底上。CG-MLC6系列直寫光刻機功能靈活、體積小、性價比高，專為各高校、實驗室及研究機構(gòu)量身打造。其主要應(yīng)用產(chǎn)品包括各類MEMS制作（如MEMS麥克風、壓力傳感器、 加速度計、陀螺儀、超聲波傳感器、壓電傳感器）、掩模板制作等。

					
            
					
            產(chǎn)品特點：
            數(shù)字光刻系統(tǒng)
            微納器件無掩模版直寫光刻
            光掩模版制作
            3D結(jié)構(gòu)曝光功能                                        
            自動對準功能
            用戶自定義標記對準功能
            可視化定點曝光功能
            自動聚焦功能                                          
            不規(guī)則樣片曝光
            快速、精細兩種曝光模式
            支持多種數(shù)據(jù)格式（GDSⅡ/ Gerber/ O DB++）
            背部對準功能（選配）
            實驗室無掩膜曝光機                          
            405nm LD光源（375nm可選）
             

            參數(shù)：
            型號
            MLC Lite
            ModeⅠ
            Mode  Ⅱ
            Mode Ⅲ
            最小特征尺寸
            0.5μm
            1μm
            2μm
            最小線寬線距
            0.8μm
            1.2μm
            2.5μm
            CD均勻性
            10%
            10%
            10%
            兩層對位精度 5x5m㎡
            500nm
            800nm
            1000nm
            兩層對位精度 50x50m㎡
            800nm
            1000nm
            1500nm
            產(chǎn)能
            50mm2/min
            100mm2/min
            300mm2/min
            最小基板尺寸
            5mm x 5mm
            基板厚度
            0.1 - 12mm(可選)
            曝光面積
            150mm x 150mm
            灰度曝光
            可選128階
            曝光光源
            Laser, 405nm or 375nm



            
                                                                				
            
			
            
		
            
	
            
		



  
    
    				
			

		
    
    
    
    
    
    
    
    
    
    

    

     
     
     
	 




	 
	
	
	

            
	
            
		
            
			
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            請輸驗證碼
            
                    
            
				
            
				
            
		
            
	
            

            


            
	
            
		
            
			
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