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            成都藤田科技有限公司

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            日本Otsuka大塚FE-300光譜分析膜厚量測儀
            參考價: 面議
            具體成交價以合同協(xié)議為準
            • 產(chǎn)品型號
            • OTSUKA/日本大塚 品牌
            • 代理商 廠商性質(zhì)
            • 成都市 所在地

            訪問次數(shù):55更新時間:2025-02-21 14:31:29

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            址:
            中國四川省成都市郫都區(qū)創(chuàng)智東二路58號綠地銀座A座1118
            網(wǎng)址:
            www.fujita-cn.com

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            產(chǎn)品簡介
            產(chǎn)地類別 進口 價格區(qū)間 面議
            應(yīng)用領(lǐng)域 綜合
            日本Otsuka大塚FE-300光譜分析膜厚量測儀-成都藤田科技提供
            產(chǎn)品信息 特 長 薄膜到厚膜的測量范圍、UV~NIR光譜分析 高性能的低價光學(xué)薄膜量測儀 藉由反射率光譜分析膜厚 完整繼承FE-3000機種90%的強大功能 無復(fù)雜設(shè)定,操作簡單,短時...
            產(chǎn)品介紹

            日本Otsuka大塚FE-300光譜分析膜厚量測儀-成都藤田科技提供

            日本Otsuka大塚FE-300光譜分析膜厚量測儀


            產(chǎn)品信息

            特殊長度

            ● 支持從薄膜到厚膜的各種薄膜厚度

            ● 使用反射光譜分析薄膜厚度

            ● 實現(xiàn)非接觸、非破壞的高精度測量,同時體積小、價格低

            ● 簡單的條件設(shè)置和測量操作!任何人都可以輕松測量薄膜厚度

            ● 通過峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法、優(yōu)化法等,可以進行多種膜厚測量。

            ● 非線性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以進行光學(xué)常數(shù)分析(n:折射率,k:消光計數(shù))。

            測量項目

            反射率測量

            膜厚分析(10層)

            光學(xué)常數(shù)分析(n:折射率,k:消光計數(shù))

            測量對象

            功能膜、塑料
            透明導(dǎo)電膜(ITO、銀納米線)、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合劑、膠粘劑、保護膜、硬涂層、防指紋, 等等。

            半導(dǎo)體
            化合物半導(dǎo)體、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、藍寶石等。

            表面處理
            DLC涂層、防銹劑、防霧劑等。

            光學(xué)材料
            濾光片、增透膜等。

            FPD
            LCD(CF、ITO、LC、PI)、OLED(有機膜、封裝材料)等

            其他
            HDD、磁帶、建筑材料等


            原理

            測量原理

            大冢電子利用光學(xué)干涉儀和自有的高精度分光光度計,實現(xiàn)非接觸、無損、高速、高精度的薄膜厚度測量。光學(xué)干涉測量法是一種使用分光光度計的光學(xué)系統(tǒng)獲得的反射率來確定光學(xué)膜厚的方法,如圖 2 所示。以涂在金屬基板上的薄膜為例,如圖1所示,從目標樣品上方入射的光被薄膜表面(R1)反射。此外,穿過薄膜的光在基板(金屬)和薄膜界面(R2)處被反射。測量此時由于光程差引起的相移所引起的光學(xué)干涉現(xiàn)象,并根據(jù)得到的反射光譜和折射率計算膜厚的方法稱為光學(xué)干涉法。分析方法有四種:峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法和優(yōu)化法。

            日本Otsuka大塚FE-300光譜分析膜厚量測儀

            規(guī)格

            規(guī)格

            類型薄膜型標準型
            測量波長范圍300-800nm450-780nm
            測量膜厚范圍
            (SiO 2換算)
            3nm-35μm10nm-35μm
            光斑直徑φ3mm / φ1.2mm
            樣本量φ200×5(高)mm
            測量時間0.1-10s內(nèi)
            電源AC100V ± 10% 300VA
            尺寸、重量280 (W) x 570 (D) x 350 (H) 毫米,24 公斤
            其他參考板,配方創(chuàng)建服務(wù)


            設(shè)備配置

            光學(xué)家譜

            日本Otsuka大塚FE-300光譜分析膜厚量測儀  


            軟件畫面

            日本Otsuka大塚FE-300光譜分析膜厚量測儀


            日本Otsuka大塚FE-300光譜分析膜厚量測儀-成都藤田科技提供













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