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            低真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備

            具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            • 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
            • 品牌 其他品牌
            • 型號
            • 產(chǎn)地
            • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
            • 更新時間 2024/7/10 13:38:19
            • 訪問次數(shù) 916

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            北京瑞科中儀科技有限公司專注半導(dǎo)體材料研究分析設(shè)備的研發(fā)和應(yīng)用。專業(yè)的團(tuán)隊,專精的服務(wù),提供理想的解決方案。

            我們長期專注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷和代理,為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的分析解決方案。以專業(yè)技能為導(dǎo)向,用科技來解決用戶在科研中遇到的難題。專業(yè)的技術(shù)工程師和科研工作者進(jìn)行現(xiàn)場演示和技術(shù)交流,打消顧慮,彼此協(xié)作,為我國的科研領(lǐng)域譜寫新篇章。

            北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機(jī)、等離子清洗機(jī)、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實驗室設(shè)備儀器。

            客戶至上的服務(wù)理念,以人為本的企業(yè)文化,我們始終為用戶提供專業(yè)的服務(wù)!

            合作丨共贏,選擇我們,選擇未來!

             

            半導(dǎo)體材料分析,材料刻蝕

            應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,電子

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            低真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備(LPCVD)是一種化學(xué)氣相沉積技術(shù),利用熱能在基板表面上引發(fā)前驅(qū)氣體的反應(yīng)。表面的反應(yīng)是形成固化材料的原因。低真空用於減少氣相反應(yīng),還可以提高整個基板的均勻性。除此之外,該過程取決於溫度控制,過程溫度越高,維持性越好。與大氣壓下的傳統(tǒng)CVD製程相比,LPCVD的優(yōu)勢在於:每批製程可裝載更多的晶圓(每批100-200個晶圓)、晶圓內(nèi)的厚度均勻性得到了改善(<±3%),並且降低生產(chǎn)成本。SYSKEY的系統(tǒng)可以精準(zhǔn)的控制製程氣體與監(jiān)控其數(shù)據(jù)(壓力、載臺溫度),並提供高品質(zhì)的薄膜。

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            低真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備參數(shù)

            應(yīng)用領(lǐng)域腔體
            • 碳納米管和石墨烯的製程。

            • SiOx、SiNx、a-Si、DLC和其他薄膜

              製程。

            • 熱退火。

            • 擴(kuò)散製程。

            • 氧化製程。

            • 加熱爐配置:水平或垂直,結(jié)合

              傳送機(jī)構(gòu)。



            配置和優(yōu)點選件
            • 客製化的基板尺寸,最大直徑可達(dá)8寸

              晶圓。

            • 單載片或多載片。

            • 優(yōu)異的薄膜均勻度小於±5%。

            • 精準(zhǔn)流量控制器,氣體分佈高度均勻,最多可容納10條氣體管線。

            • 穩(wěn)定的溫度控制,可將載盤加熱至1700°C。

            • 可以與傳送腔(單載臺或多載臺)整

              合在一起。




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