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            感應(yīng)耦合電漿化學(xué)氣相沉積設(shè)備

            具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            • 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
            • 品牌 其他品牌
            • 型號
            • 產(chǎn)地
            • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
            • 更新時間 2024/7/10 13:40:41
            • 訪問次數(shù) 637

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            北京瑞科中儀科技有限公司專注半導(dǎo)體材料研究分析設(shè)備的研發(fā)和應(yīng)用。專業(yè)的團(tuán)隊(duì),專精的服務(wù),提供理想的解決方案。

            我們長期專注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷和代理,為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的分析解決方案。以專業(yè)技能為導(dǎo)向,用科技來解決用戶在科研中遇到的難題。專業(yè)的技術(shù)工程師和科研工作者進(jìn)行現(xiàn)場演示和技術(shù)交流,打消顧慮,彼此協(xié)作,為我國的科研領(lǐng)域譜寫新篇章。

            北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機(jī)、等離子清洗機(jī)、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備儀器。

            客戶至上的服務(wù)理念,以人為本的企業(yè)文化,我們始終為用戶提供專業(yè)的服務(wù)!

            合作丨共贏,選擇我們,選擇未來!

             

            半導(dǎo)體材料分析,材料刻蝕

            應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,電子

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            ICP-CVD 感應(yīng)耦合電漿化學(xué)氣相沉積設(shè)備(ICP-CVD)是一種使用ICP的化學(xué)氣相沉積技術(shù),可為沉積反應(yīng)提供一些能量。與PECVD方法相比,ICP-CVD可以在較低的溫度下沉積各種薄膜而不會降低薄膜質(zhì)量。因使用ICP做為電漿源,有電漿濃度較高、能量損耗較低、功率較大與反應(yīng)速率較高等優(yōu)點(diǎn)。

            SYSKEY感應(yīng)耦合電漿化學(xué)氣相沉積設(shè)備的ICP-CVD可以精準(zhǔn)的控制製程氣體與監(jiān)控其數(shù)據(jù)(壓力、載臺溫度),並提供高品質(zhì)的薄膜。

            應(yīng)用領(lǐng)域腔體
            • 奈米碳管與石墨烯製程。

            • SiOx、SiNx、a-Si、DLC和其他薄

              膜製程。

            • 二維材料。

            • 醫(yī)療和商業(yè)產(chǎn)品的耐磨薄膜。

            • 陽極電鍍處理鋁腔。

            • 通過使用水冷系統(tǒng)、加熱器或

              加熱包來控制腔體溫度。


            配置和優(yōu)點(diǎn)選件
            • 客製化的基板尺寸,最大直徑可達(dá)

              12寸晶圓。

            • 腔體壓力:50~10-3 Torr。

            • 精準(zhǔn)流量控制器,氣體分佈高度均勻,最多可擴(kuò)充10條氣體管線。

            • 穩(wěn)定的溫度控制,將載盤加熱至700°C。

            • 使用Tornado ICP線圈,ICP電漿範(fàn)

              圍為50W ~2000W,滿足客戶ICP-CVD製程需求。

            • 可以與傳送腔、機(jī)械手臂和手

              套箱整合在一起。

            • RPS用於腔體清潔。

            • 橢圓偏振光譜儀。

            • 發(fā)射光譜儀。

            • 高真空傳送系統(tǒng)。




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