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            FPD-PECVD 電漿輔助化學(xué)氣相沉積

            具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            • 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
            • 品牌 其他品牌
            • 型號
            • 產(chǎn)地
            • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
            • 更新時間 2024/7/10 13:42:51
            • 訪問次數(shù) 609

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            北京瑞科中儀科技有限公司專注半導(dǎo)體材料研究分析設(shè)備的研發(fā)和應(yīng)用。專業(yè)的團(tuán)隊,專精的服務(wù),提供理想的解決方案。

            我們長期專注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷和代理,為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的分析解決方案。以專業(yè)技能為導(dǎo)向,用科技來解決用戶在科研中遇到的難題。專業(yè)的技術(shù)工程師和科研工作者進(jìn)行現(xiàn)場演示和技術(shù)交流,打消顧慮,彼此協(xié)作,為我國的科研領(lǐng)域譜寫新篇章。

            北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機(jī)、等離子清洗機(jī)、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實驗室設(shè)備儀器。

            客戶至上的服務(wù)理念,以人為本的企業(yè)文化,我們始終為用戶提供專業(yè)的服務(wù)!

            合作丨共贏,選擇我們,選擇未來!

             

            半導(dǎo)體材料分析,材料刻蝕

            應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,電子

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            FPD-PECVD 電漿輔助化學(xué)氣相沉積

            隨著LCD面板和製造所需玻璃的尺寸的增加,其製造設(shè)備也變得更大,需要越來越大的設(shè)備投資。SYSKEY針對中小尺寸的需求開發(fā)串集的PECVD 設(shè)備,提供非晶矽(a-Si),氧化矽(SiOx),氮氧化矽(SiON),氮化矽(SiNx)和多層膜沉積。

            FPD-PECVD 電漿輔助化學(xué)氣相沉積

            應(yīng)用領(lǐng)域
            • 非晶矽前驅(qū)物(a-Si)。

            • 氮化矽 (SiNx)。

            • 氧化矽,矽烷基(SiOx)。

            • 氧化矽,TEOS (SiOx)。


            配置和優(yōu)點選件
            • 客製化基板尺寸最大為550 x 650 mm2(玻璃)。

            • 優(yōu)異的薄膜均勻度小於±3%。

            • 每個製程腔內(nèi)最多可加裝7組氣體管線。

            • 遠(yuǎn)程電漿進(jìn)行腔體清潔。

            • 穩(wěn)定的溫度控制,可將基板加熱到380°C。

            • Cassette傳送站。

            • TEOS沉積製程。

            • OES、RGA或製程監(jiān)控的額外備用端口。



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