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            超高真空磁控濺鍍?cè)O(shè)備

            具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            • 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
            • 品牌 其他品牌
            • 型號(hào)
            • 產(chǎn)地
            • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
            • 更新時(shí)間 2024/7/10 13:12:18
            • 訪問(wèn)次數(shù) 663

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            北京瑞科中儀科技有限公司專注半導(dǎo)體材料研究分析設(shè)備的研發(fā)和應(yīng)用。專業(yè)的團(tuán)隊(duì),專精的服務(wù),提供理想的解決方案。

            我們長(zhǎng)期專注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷和代理,為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的分析解決方案。以專業(yè)技能為導(dǎo)向,用科技來(lái)解決用戶在科研中遇到的難題。專業(yè)的技術(shù)工程師和科研工作者進(jìn)行現(xiàn)場(chǎng)演示和技術(shù)交流,打消顧慮,彼此協(xié)作,為我國(guó)的科研領(lǐng)域譜寫新篇章。

            北京瑞科中儀科技有限公司長(zhǎng)期代理銷售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機(jī)、等離子清洗機(jī)、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備儀器。

            客戶至上的服務(wù)理念,以人為本的企業(yè)文化,我們始終為用戶提供專業(yè)的服務(wù)!

            合作丨共贏,選擇我們,選擇未來(lái)!

             

            半導(dǎo)體材料分析,材料刻蝕

            應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,電子

            超高真空磁控濺鍍?cè)O(shè)備超高真空環(huán)境的特徵為其真空壓力低於10-8至10-12 Torr,且在化學(xué)、物理和工程領(lǐng)域十分常見。超高真空環(huán)境對(duì)於科學(xué)研究非常重要,因?qū)嶒?yàn)通常要求在整個(gè)實(shí)驗(yàn)的過(guò)程中,表面應(yīng)保持無(wú)污染狀態(tài)並可使用較低能量的電子和離子的實(shí)驗(yàn)技術(shù)使用,而不會(huì)受到氣相散射的干擾。SYSKEY可以在這樣超高真空環(huán)境下使用濺鍍系統(tǒng)以提供高品質(zhì)的薄膜。

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            超高真空磁控濺鍍?cè)O(shè)備針對(duì)超高真空和高溫加熱設(shè)計(jì)的基板旋轉(zhuǎn)鍍膜機(jī)構(gòu),使用陶瓷培林旋轉(zhuǎn),並在內(nèi)部做水冷,來(lái)保護(hù)機(jī)構(gòu)以確保長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)轉(zhuǎn)的穩(wěn)定。
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            應(yīng)用領(lǐng)域腔體
            • 半導(dǎo)體類。

            • 納米科技。

            • 產(chǎn)品質(zhì)量控制和質(zhì)量檢查。

            • 氧化物、氮化物和金屬材料的研究。

            • 太陽(yáng)能電池

            • 光學(xué)研究。

            • 材料研究。

            • 客製化的腔體尺寸取決於基板尺寸和

              其應(yīng)用。

            • 腔體為使用金屬密封圈並可烘烤至150 oC。

            • 具有顯示功能的全領(lǐng)域真空計(jì)和用

              於壓力控制的Baratron真空計(jì)。

            • 腔體的極限真空度約10-10 Torr


            配置和優(yōu)點(diǎn)選件
            • 客製化基板尺寸,最大直徑可達(dá)12寸

              晶圓。

            • 優(yōu)異的薄膜均勻度小於±3%

            • 磁控濺鍍?cè)矗ㄗ疃?個(gè)源),具有多

              種可選的靶材尺寸

            • 具有順序操作或共沉積的多個(gè)濺鍍?cè)?/span>。

            • 射頻、直流或脈衝直流,分別用於

              非導(dǎo)電與導(dǎo)電靶材。

            • 精準(zhǔn)流量控制器(最多4條氣體管線)。

            • 基板可加熱到1000°C。

            • 基材到靶材之間距為可調(diào)節(jié)的。

            • 每個(gè)濺鍍?cè)春突寰惭b遮板

            • 可以與傳送腔、機(jī)械手臂和手套箱

              整合在一起。

            • 結(jié)合離子源、熱蒸發(fā)源、電子束...。

            • 基板可用射頻或直流偏壓。

            • 膜厚監(jiān)測(cè)儀。

            • 射頻等離子清潔用於基材。

            • OES、RGA或製程監(jiān)控的額外備用端口。




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