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            有機材料熱蒸鍍設(shè)備

            具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
            • 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
            • 品牌 其他品牌
            • 型號
            • 產(chǎn)地
            • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
            • 更新時間 2024/7/10 13:24:00
            • 訪問次數(shù) 572

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            北京瑞科中儀科技有限公司專注半導(dǎo)體材料研究分析設(shè)備的研發(fā)和應(yīng)用。專業(yè)的團隊,專精的服務(wù),提供理想的解決方案。

            我們長期專注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷和代理,為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的分析解決方案。以專業(yè)技能為導(dǎo)向,用科技來解決用戶在科研中遇到的難題。專業(yè)的技術(shù)工程師和科研工作者進行現(xiàn)場演示和技術(shù)交流,打消顧慮,彼此協(xié)作,為我國的科研領(lǐng)域譜寫新篇章。

            北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機、等離子清洗機、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實驗室設(shè)備儀器。

            客戶至上的服務(wù)理念,以人為本的企業(yè)文化,我們始終為用戶提供專業(yè)的服務(wù)!

            合作丨共贏,選擇我們,選擇未來!

             

            半導(dǎo)體材料分析,材料刻蝕

            應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,電子

            有機材料熱蒸鍍設(shè)備

            有機金屬熱沉積系統(tǒng)是一種熱蒸發(fā)的方式,用於將有機或金屬材料沉積到基板表面上。該過程需要通過精確控制溫度和沉積速率來實現(xiàn)薄膜的高精度和均勻性。

            為了達到此要求,有機材料熱沉積系統(tǒng)使用高精準(zhǔn)熱蒸發(fā)源作為加熱源,並使用金屬、石英、陶瓷或PBN坩堝來容納有機材料以及PID控制器來控制其沉積速率。該系統(tǒng)通常用於有機電子研究領(lǐng)域,例如OPV、OLED、OPD... 

            有機材料熱蒸鍍設(shè)備

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            封裝系統(tǒng)

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            SYSKEY針對研究等級的實驗室,推出玻璃對玻璃封裝的對位壓合機構(gòu)。我們整合塗膠系統(tǒng)(UV或liquid gate)和紫外光燈可安裝於手套箱或是獨立的一個壓合腔體內(nèi),且可手動進行放片,也可以透過自動傳片系統(tǒng)使用。可撓式OLED必須輕薄且具有可撓曲性,因此過往的玻璃材料並不適合用於此類的封裝,必須採用薄膜封裝技術(shù)(Thin-Film Encapsulation,TFE)或混和封裝技術(shù)。SYSKEY針對薄膜封裝推出電漿輔助式化學(xué)氣相沉積、原子層沉積和聚對二甲苯沉積等三種設(shè)備,且使用低溫的沉積技術(shù),分別在OLED 上堆疊多層薄膜(SiNX、SiOXNX、Al2O3、ZnO、Parylene)並得到更好的保護層,以減少水氧對於有機元件的影響,從而提高OLED面板的壽命和性能。

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            應(yīng)用領(lǐng)域腔體
            • 有機發(fā)光二極體。

            • 有機光伏打電池

            • 材料科學(xué)研究。

             

            • 由304不銹鋼所製成,通過外部焊接304不銹鋼管線對腔體進行水冷。

            • 寬大的前開式門,並有兩個視窗和

              視窗遮版用於觀察基材和蒸發(fā)源。

            • 一個熱蒸發(fā)腔體內(nèi),最多可容納

              12組熱蒸發(fā)源

            • 腔體的極限真空度約為10-8 Torr。

            配置和優(yōu)點選件
            • 客製化的基板尺寸,最大直徑為12寸晶圓或470 x 370 mm2(玻璃)

            • 優(yōu)異的薄膜均勻度小於±3%。

            • 用於有機材料的蒸發(fā)源(可用金屬、陶瓷、石墨或PBN坩堝)。

            • 鍍率自動控制:最小值為0.01?/s。

            • 蒸發(fā)源溫度控制可達到精度±0.1oC

            • 具有順序操作或共沉積的多個蒸發(fā)源。

            • 用CCD對位將玻璃基板和遮罩的

              位置對準(zhǔn)在±5μm以內(nèi)。

            • 每個蒸發(fā)源和基材均有安裝遮板。

            • 每個蒸發(fā)源和基板均裝有百葉窗。

            • 可以與傳送腔、機械手臂和手套箱整合在一起

            • 殘留氣體分析儀。

             




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